玻璃鍍膜就是在玻璃表面涂渡一層或多層金屬膜或金屬化合物，以改變玻璃光學性能。
玻璃鍍膜的方法分為四類：化學沉積法、熱蒸發鍍、機械(包括噴涂和浸漬兩種方法)以及目前比較先進的磁控賤射鍍膜。這些技術的原理和設備都不一樣，也不能互換。 鍍膜玻璃生產方法都是在玻璃表面涂以金、銀、銅、鋁、鎳、鐵錫等金屬，金屬氧化物或非金屬氧化物薄膜：或采用電浮法、等離子法，像玻璃表面層深入金屬離子以置換玻璃表面層原有的離子而形成的陽光控制鍍膜。 鍍膜前清洗鍍膜前清洗的主要污染物是油污、手印、灰塵等。由于鍍膜工序對鏡片潔凈度的要求極為嚴格，因此清洗劑的選擇是很重要的。在考慮某種清洗劑的清洗能力的同時，還要考慮到他的腐蝕性等方面的問題。分為有機溶劑清洗和半水基清洗。
有機溶劑清洗采用的清洗流程如下： 有機溶劑清洗劑（超聲波）-水基清洗劑（超聲波）-市水漂洗-純水漂洗-IPA（異丙醇）脫水-IPA慢拉干燥。
半水基清洗采用的清洗流程如下： 半水基清洗劑（超聲波）-市水漂洗-水基清洗劑-市水漂洗-純水漂洗-IPA脫水-IPA慢拉干燥 真空蒸發鍍膜是將被鍍零件和膜層材料，以一定的相對位置，放在一個真空空 間，采用一定的方法，使膜料氣化或升華，形成具有一定動能的分子(原子或離子)，離開蒸發器飛向被鍍零件表面，在表面上淀積形成薄膜。
真空蒸發包括三個主要系統：真空系統、蒸發系統、膜厚監控系統。其中真空系統由真空室、機械泵、分子泵（油擴散泵）、管道、閥門、真空測量裝置等部分組成。蒸發系統采用電子槍蒸發，其主要由燈絲、高壓線圈、偏轉線圈、坩堝等組成。膜厚監控系統采用光電極值法，其主要由光源、比較片、單色儀、光電倍增管、膜厚控制儀及穩流穩壓電源組成。 磁濺射是先對玻璃進行清洗，在高真空倉室的靶材賤射區經過靶材離子賤射而鍍膜的。
玻璃鍍膜的方法分為四類：化學沉積法、熱蒸發鍍、機械(包括噴涂和浸漬兩種方法)以及目前比較先進的磁控賤射鍍膜。這些技術的原理和設備都不一樣，也不能互換。 鍍膜玻璃生產方法都是在玻璃表面涂以金、銀、銅、鋁、鎳、鐵錫等金屬，金屬氧化物或非金屬氧化物薄膜：或采用電浮法、等離子法，像玻璃表面層深入金屬離子以置換玻璃表面層原有的離子而形成的陽光控制鍍膜。 鍍膜前清洗鍍膜前清洗的主要污染物是油污、手印、灰塵等。由于鍍膜工序對鏡片潔凈度的要求極為嚴格，因此清洗劑的選擇是很重要的。在考慮某種清洗劑的清洗能力的同時，還要考慮到他的腐蝕性等方面的問題。分為有機溶劑清洗和半水基清洗。
有機溶劑清洗采用的清洗流程如下： 有機溶劑清洗劑（超聲波）-水基清洗劑（超聲波）-市水漂洗-純水漂洗-IPA（異丙醇）脫水-IPA慢拉干燥。
半水基清洗采用的清洗流程如下： 半水基清洗劑（超聲波）-市水漂洗-水基清洗劑-市水漂洗-純水漂洗-IPA脫水-IPA慢拉干燥 真空蒸發鍍膜是將被鍍零件和膜層材料，以一定的相對位置，放在一個真空空 間，采用一定的方法，使膜料氣化或升華，形成具有一定動能的分子(原子或離子)，離開蒸發器飛向被鍍零件表面，在表面上淀積形成薄膜。
真空蒸發包括三個主要系統：真空系統、蒸發系統、膜厚監控系統。其中真空系統由真空室、機械泵、分子泵（油擴散泵）、管道、閥門、真空測量裝置等部分組成。蒸發系統采用電子槍蒸發，其主要由燈絲、高壓線圈、偏轉線圈、坩堝等組成。膜厚監控系統采用光電極值法，其主要由光源、比較片、單色儀、光電倍增管、膜厚控制儀及穩流穩壓電源組成。 磁濺射是先對玻璃進行清洗，在高真空倉室的靶材賤射區經過靶材離子賤射而鍍膜的。
